纯水设备

立足先进超纯水工艺及水资源管理方案高频科技“双维度”助力半导体企业降本增效

  随着市场之间的竞争的加剧和技术进步的不断推进,半导体企业一定持续创新、不断降低产品成本,提升产品效率,才能在激烈的市场之间的竞争中立于不败之地。其中,降本增效已成为半导体企业生存和发展的必由之路。

  提升良品率和资源利用效率,是半导体企业降本增效的两大途径,而处于半导体上游的超纯水制备,可以在以上两大环节深度去参加了。近些年来,包括高频科技在内的头部超纯水企业,一直探索通过先进的超纯水工艺和循环再生解决方案,助力半导体企业降本增效,并取得令人瞩目的成果。

  对于一种包含1000道工序的半导体工艺技术来说,若是每一道工序产品良率为99.9%,则最终的产品良率仅为36.7%。因此,半导体企业想要实现降本增效,首先要在单个工序中逐步提升产品良率,达到99.99%甚至99.999%的良率标准。而超纯水则是提升良品率的关键之一。上千道芯片制造工艺的过程中有30%都在湿法清洗,都要使用到电阻率为18兆欧以上的超纯水。当集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也就越高。换言之,越接近18.24兆欧理论极限值的超纯水,对芯片清洗的效果越好,也越有利于助推良品率提升,进而打下降本增效的基石。

  此外,半导体企业降本增效还需提升水资源利用效率。半导体是用水密集型行业,吸收了27%的工业用水。而且行业统计数据表明,芯片生产的先进制程技术越进步,清洗步骤越多,用水量会呈指数级提升。随着半导体行业开始步入“后摩尔定律时代”,资源利用率慢慢的变成了制约半导体产业高质量发展的核心要素之一。因此,提升半导体用水效能,是半导体企业降低生产所带来的成本,提升竞争力和实现可持续发展的关键突破口。

  作为半导体产业链上很重要的一环,高频科技始终关注半导体客户多方面需求,通过不断的提高超纯水水质指标,优化水循环再生解决方案,帮助提升良品率和水资源利用效率,以“双维度”助力半导体企业降本增效。

  在超纯水水质指标提升方面,高频科技取得重要成果,超纯水杂质浓度解决方案有了突破进展,特别是在PPB级别的TOC、溶解氧去除,以及PPT级别的硼、硅等特殊物质的去除方面。通过过硬的技术把控力和工程实践经验,针对有机物(TOC)、颗粒物、细菌、金属和阴离子等影响良率的主要杂质,已经实现领先于行业的技术成果,产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24M厘米的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%,可以轻松又有效地避免杂质对芯片的影响,保证芯片的质量和稳定能力,从而提升良品率,为半导体客户塑造强大的经济效益壁垒。

  在提升水资源利用效率方面,高频科技同样拥有走在行业前列的成果和解决方案。依托自有优秀半导体水系统专家,高频科技从覆盖半导体企业用水生命周期整体流程统筹规划,在确保超纯水水质纯度稳定达标的基础之上,配合多类废水的收集与处理系统,研发交付了超过30种可选回用水工艺技术,包括砂滤及炭滤器反洗水回用、砂滤及炭滤器正冲水回用、反渗透浓缩水回用、EDI和UF浓缩水回用、反渗透冲洗水回用、冷却塔排放水回用、低浓度有机废水回用、混床再生冲洗水回用、低浓度含氟废水回用、洗涤塔排放水回用、仪表排放水回用等,积极寻求节水机会点,并以清洗质量、良品率为核心导向,已实现水制程回收率达75%-90%,让每一滴超纯水都能循环再利用。

  同时,高频科技从覆盖半导体企业用水生命周期整体流程统筹规划,通过事前规划、专家运维、绿色水系统创新等维度,协助半导体企业打造低本高效、操作便利、维护简单、可扩充性、理念创新的“绿色厂务工厂”,助半导体企业高效可持续发展。

  降本增效是半导体企业一定要面对的重要课题。超纯水纯净工艺和水循环设备及解决方案,是半导体公司实现高良品率和水能效的重要的条件之一,也是企业提高竞争力和效益的突破方向。作为立足于超纯工艺能力的工业级技术服务商,高频科技不断推进超纯水和水循环技术的研发及创新,以满足半导体企业降本增效的需求,为产业高水平质量的发展做出贡献。

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